供应纯铜靶材

   用途：溅射靶材主要应用于电子及信息产业如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
   溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用 离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。
   溅射靶材按应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、其他靶材。
   产品表面光洁，无氧化、划伤、凹坑，平直度好，尺寸偏差小，可根据用户的图纸要求生产各种截面形状复杂的铜排。
   产品按现行国家标准生产，特殊要求必须在合同中注明。同时，我公司亦可根据图纸提供以上材料的冲制件。
   产品单价是根据订单当日上海有色金属网现货铜价计算的。
   付款方式：30%预付款到帐后排产，其余货款提货前付清，量大可以月结。开票不开票均可操作
   包装：木箱装订，真空包装，排与排之间用珍珠棉纸隔开
   所有产品均可提供***报告，材质符合欧洲ROHS环保需求，产品不含污染物质。
   联系人：小顾   联系电话：   传真：0523-84832976
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